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原料在回轉窯中運動情況

瀏覽次數(shù): 發(fā)布時間:2012/09/24

    當原料在回轉窯窯內運動時,原料顆粒的運動方式有周期性的變化,回轉窯設備或埋在料層里面與窯一起向上運動,或到料層表面上而降落下來。但只有在原料顆粒沿表面層降落的過程中,它才能沿著窯長方向前進。

 原料顆粒在回轉窯內運動情況是比較復雜的。如果假定原料顆粒在窯壁上及原料層內部沒有滑動現(xiàn)象時,通常認為原料運動是這樣:原料在摩擦力的作用下與窯壁一起像一個整體一樣慢慢升起,當轉到一定的高度時,即原料層表面與水平面形成的角度等于原料的堆積角時,則原料顆粒在重力的作用下,沿料層滑落下來。由于回轉窯有一定傾斜度,而原料顆粒滾動時,沿著斜度的最大方向下降,因此向前移動了一定的距離。

    原料在回轉窯窯內運動的情況將影響到原料在窯內的停留時間(即原料受熱時間);回轉窯設備原料在窯內的填充系數(shù)(即原料受熱面積);原料粒度翻動情況,也影響到原料的均勻性(即影響到燃燒產物與原料的表面溫度。

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   本文來源于:宋陵礦山回轉窯網http://hs-nsk.cn 

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